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真空电镀设备恰当选择使用影响最小化

   真空电镀设备无论监控仪精度怎样,真空电镀设备它也只能控制真空室里单点位置的膜厚,一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是绝对均匀的,那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性,但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的,所以几乎是不可能消除的,但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响最小化。

   电镀设备在过去几年中,越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统,同时,用户对性能的要求不仅没有降低,反而有所提高,特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化最小化等方面。装饰真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置,在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。


 

 真空电镀设备该设备具有:结构合理,膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产效率高、操作方便,能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龙、金属、波丽、玻璃、陶瓷、TPU等。



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